MAC液體電磁閥銷(xiāo)售價(jià)格√☆>AAA<

--上海相澤機(jī)械設(shè)備有限公司磁線(xiàn)圈外殼密封

    MAC提供兩種類(lèi)型外殼,每一種有多種用途：傳統(tǒng)的RED HAT 金屬結(jié)構(gòu)和一個(gè)被稱(chēng)作RED HAT11的電磁線(xiàn)圈的整體模壓環(huán)氧樹(shù)脂結(jié)構(gòu)。全部都滿(mǎn)足ICS-6，ANSI/NEMA標(biāo)準(zhǔn)UL標(biāo)準(zhǔn)429。508和1002.這些標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定外殼防護(hù)級(jí)別，并通過(guò)實(shí)驗(yàn)，使每一個(gè)類(lèi)型都有獲得認(rèn)證。

電磁線(xiàn)圈結(jié)構(gòu)

    接觸液體的內(nèi)部零件是由非磁性的300系列和磁性的400系列不銹鋼構(gòu)成的。在交流結(jié)構(gòu)中，屏蔽線(xiàn)圈是紫鋼，而不銹鋼閥體作用銀。當(dāng)需要時(shí)，可以使用其它材料。在直流結(jié)構(gòu)中，不需屏蔽線(xiàn)圈。磁心管是由300系列不銹鋼經(jīng)深度拉伸形成的，使需用不需銀焊或形成焊點(diǎn)。

zui大操作壓力

    zui大操作壓力是指電磁線(xiàn)圈能夠安全地操作閥門(mén)時(shí)可承受閥門(mén)入口與出口間的zui大壓力差。若閥門(mén)出口壓力是未知的，把供給壓力當(dāng)作zui大壓差是zui安全的。

zui小操作壓力差

    zui小操作壓差是指開(kāi)啟閥門(mén)或保持閥門(mén)開(kāi)啟所需的zui小壓差。對(duì)于兩通浮動(dòng)活塞或浮動(dòng)膜片閥來(lái)說(shuō)，當(dāng)?shù)陀趜ui小操作壓差時(shí)，閥門(mén)將開(kāi)始關(guān)閉，對(duì)于三，四通先導(dǎo)閥來(lái)說(shuō)，zui小操作壓力差是在壓力和排氣口之間測(cè)量差，須在一個(gè)操作周期被保持以確保由一個(gè)位置轉(zhuǎn)到另一個(gè)位置。

注意：直動(dòng)式，懸掛膜片或懸掛活塞閥不需要zui小壓差。

安全操作壓力

    安全工作壓力是指閥門(mén)可以承受的無(wú)損害的管路或系統(tǒng)壓力。試驗(yàn)壓力是安全工作壓力的5倍。

環(huán)境溫度限制

    zui低環(huán)境溫度除特別系列注明外，標(biāo)準(zhǔn)目錄閥的正常限制是0度。

動(dòng)作時(shí)間

    從閥門(mén)全閉到全開(kāi)，或反之的動(dòng)作時(shí)間取決于閥門(mén)的尺寸和操作形式,電力供給。流體溫度,入口壓力和壓降等，在平均條件下空氣操作交流閥協(xié)作時(shí)間如下：

A   小直動(dòng)閥—5至10毫秒

B   大直動(dòng)閥—20至40毫秒

C   內(nèi)部先導(dǎo)式操作閥

1、小膜片型—15至50毫秒        2、大膜片型—50至75毫秒  3、小活塞型—75至100毫秒       4、大活塞型—100至150毫秒得認(rèn)證。

電磁線(xiàn)圈結(jié)構(gòu)

    接觸液體的內(nèi)部零件是由非磁性的300系列和磁性的400系列不銹鋼構(gòu)成的。在交流結(jié)構(gòu)中，屏蔽線(xiàn)圈是紫鋼，而不銹鋼閥體作用銀。當(dāng)需要時(shí)，可以使用其它材料。在直流結(jié)構(gòu)中，不需屏蔽線(xiàn)圈。磁心管是由300系列不銹鋼經(jīng)深度拉伸形成的，使需用不需銀焊或形成焊點(diǎn)。

zui大操作壓力

    zui大操作壓力是指電磁線(xiàn)圈能夠安全地操作閥門(mén)時(shí)可承受閥門(mén)入口與出口間的zui大壓力差。若閥門(mén)出口壓力是未知的，把供給壓力當(dāng)作zui大壓差是zui安全的。

zui小操作壓力差

    zui小操作壓差是指開(kāi)啟閥門(mén)或保持閥門(mén)開(kāi)啟所需的zui小壓差。對(duì)于兩通浮動(dòng)活塞或浮動(dòng)膜片閥來(lái)說(shuō)，當(dāng)?shù)陀趜ui小操作壓差時(shí)，閥門(mén)將開(kāi)始關(guān)閉，對(duì)于三，四通先導(dǎo)閥來(lái)說(shuō)，zui小操作壓力差是在壓力和排氣口之間測(cè)量差，須在一個(gè)操作周期被保持以確保由一個(gè)位置轉(zhuǎn)到另一個(gè)位置。